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直写成像式曝光设备
2025-05-29
微析研究院
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国家标准
国家标准《直写成像式曝光设备》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。
主要起草单位合肥芯碁微电子装备股份有限公司、广州兴森快捷电路科技有限公司、安徽省工业和信息化研究院、深南电路股份有限公司、四创电子股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥矽迈微电子科技有限公司、深圳市克洛诺斯科技有限公司、深圳拜波赫技术有限公司。
主要起草人何少锋 、陈新 、邱醒亚 、乔书晓 、沈桂珍 、朱颖 、陈黎阳 、方林 、曲鲁杰 、许静平 、陈东 、崔良端 、陆培良 、吴怡然 、曹可慰 、赵俊莎 、李香滨 、严孝年 、鲁男 、李娜 、李照辉 、吴新民 。
标准号：GB/T 43725-2024发布日期：2024-03-15实施日期：2024-10-01标准类别：产品中国标准分类号：L97国际标准分类号：31.260 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门：国家标准委
合肥芯碁微电子装备股份有限公司安徽省工业和信息化研究院四创电子股份有限公司合肥矽迈微电子科技有限公司深圳拜波赫技术有限公司广州兴森快捷电路科技有限公司深南电路股份有限公司中国电子技术标准化研究院深圳市克洛诺斯科技有限公司
何少锋陈新沈桂珍朱颖曲鲁杰许静平陆培良吴怡然李香滨严孝年李照辉吴新民邱醒亚乔书晓陈黎阳方林陈东崔良端曹可慰赵俊莎鲁男李娜
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