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金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
2025-05-29
微析研究院
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国家标准
国家标准《金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准委。
主要起草单位安徽光智科技有限公司、云南驰宏锌锗股份有限公司、国标(北京)检验认证有限公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、东方电气(乐山)峨半高纯材料有限公司、有研国晶辉新材料有限公司、广东先导稀材股份有限公司、广东飞成新材料有限公司。
主要起草人朱赞芳 、谭秀珍 、廖吉伟 、刘红 、吴王昌 、黎亚文 、李瑶 、刘英波 、李正美 、崔丁方 、李江霖 、段春芳 。
标准号:GB/T 37211.3-2022发布日期:2022-12-30实施日期:2023-04-01标准类别:方法中国标准分类号:H17国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委
安徽光智科技有限公司国标(北京)检验认证有限公司东方电气(乐山)峨半高纯材料有限公司广东先导稀材股份有限公司云南驰宏锌锗股份有限公司云南临沧鑫圆锗业股份有限公司有研国晶辉新材料有限公司广东飞成新材料有限公司
朱赞芳谭秀珍吴王昌黎亚文李正美崔丁方廖吉伟刘红李瑶刘英波李江霖段春芳
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