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硅外延用三氯氢硅
2025-05-29
微析研究院
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国家标准
国家标准《硅外延用三氯氢硅》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。
主要起草单位中锗科技有限公司、南京国盛电子有限公司、南京中锗科技股份有限公司。
主要起草人赵立奎 、张莉萍 、谭卫东 、金龙 、刘新军 、郑华荣 。
标准号：GB/T 30652-2014发布日期：2014-12-31实施日期：2015-09-01废止日期：2024-03-01标准类别：产品中国标准分类号：H83国际标准分类号：29.045 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委
中锗科技有限公司南京中锗科技股份有限公司南京国盛电子有限公司
赵立奎张莉萍刘新军郑华荣谭卫东金龙
GB/T 30652-2023 硅外延用三氯氢硅YS/T 1059-2015 硅外延用三氯氢硅中总碳的测定 气相色谱法20240139-T-469 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法YS/T 1060-2015 硅外延用三氯氢硅中其他氯硅烷含量的测定 气相色谱法GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法HG/T 4683-2014 三氯氢硅泄漏的处理处置方法GB/T 28654-2018 工业三氯氢硅DB53/T 499-2013 多晶硅用三氯氢硅DB53/T 500-2013 多晶硅用三氯氢硅组分含量测定 气相色谱法DB53/T 501-2013 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法
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