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用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
2025-05-29
微析研究院
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国家标准
国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准委。
主要起草单位上海华虹NEC电子有限公司。
主要起草人王雷 、伍强 、朱骏 、陈宝钦 。
标准号：GB/T 29844-2013发布日期：2013-11-12实施日期：2014-04-15标准类别：基础中国标准分类号：L90国际标准分类号：31.030 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会主管部门：国家标准委
上海华虹NEC电子有限公司
王雷伍强朱骏陈宝钦
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微析研究所总部位于北京，拥有数家国内检测、检验（监理）、认证、研发中心，1家欧洲（荷兰）检验、检测、认证机构，以及19家国内分支机构。微析研究所拥有35000+平方米检测实验室，超过2000人的技术服务团队。
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