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砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法
2025-05-29
微析研究院
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国家标准
国家标准《砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）、全国有色金属标准化技术委员会联合归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。
主要起草单位北京有色金属研究总院。
主要起草人王彤涵 。
标准号：GB/T 8758-2006发布日期：2006-07-18实施日期：2006-11-01全部代替标准：GB/T 8758-1988,GB/T 8758-1989标准类别：方法中国标准分类号：H17国际标准分类号：77.040.01 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会、全国有色金属标准化技术委员会副归口单位：全国有色金属标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委
北京有色金属研究总院
王彤涵
YS/T 14-2015 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法YS/T 14-1991 导质外延层和硅夕晶层厚度测量方法20240143-T-469 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法GB/T 11068-2006 砷化镓外延层载流子浓度电容-电压测量方法GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法YS/T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法YS/T 23-1992 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法GB/T 42905-2023 碳化硅外延层厚度的测试红外反射法YS/T 15-2015 硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法YS/T 15-1991 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法
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